1.7MOSFET教程
在本教程中,我们将简要介绍MOSFET,即金属氧化物半导体场效应晶体管。我们将学习不同类型的MOSFET(增强型和耗尽型)、其内部结构、一个使用MOSFET作为开关的示例电路以及一些常见应用。
晶体管及其类型
晶体管,这项改变世界的发明,是一种半导体器件,可以作为电控开关或信号放大器。晶体管有多种形状、尺寸和设计,但本质上,所有晶体管都属于两个主要系列:
- 双极型晶体管(BJT)
- 场效应晶体管(FET)
要了解更多关于晶体管的基础知识和历史,请阅读《晶体管简介》教程。
BJT和FET之间有两个主要区别。第一个区别是,在BJT中,多数载流子和少数载流子都参与电流传导,而在FET中,只有多数载流子参与。
另一个非常重要的区别是,BJT本质上是电流控制器件,意味着晶体管基极的电流决定了集电极和发射极之间流动的电流量。而在FET中,栅极(FET中相当于BJT的基极)的电压决定了其他两个端子之间的电流流动。
FET又分为两种类型:
- 结型场效应晶体管(JFET)
- 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
本教程我们重点介绍MOSFET。
金属氧化物半导体FET(MOSFET)
金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)是FET晶体管的一种。在这些晶体管中,栅极与电流传导沟道之间是电绝缘的,因此也称为绝缘栅FET(IG-FET)。由于栅极和源极之间的绝缘,MOSFET的输入电阻可能非常高(通常在 欧姆量级)。
与JFET一样,当没有电流流入栅极时,MOSFET也起到电压控制电阻的作用。栅极的小电压控制源极和漏极之间沟道的电流流动。如今,在电子电路应用中,MOSFET晶体管大多取代了JFET。
MOSFET也有三个端子,即漏极(D)、源极(S)和栅极(G),还有一个可选的端子称为衬底或体(B)。MOSFET也有N沟道(NMOS)和P沟道(PMOS)两种类型。MOSFET基本上分为两种形式:
- 耗尽型
- 增强型
耗尽型
耗尽型MOSFET晶体管相当于一个“常闭”开关。耗尽型晶体管需要栅源电压()来关闭器件。

耗尽型MOSFET的符号如上所示,包括N沟道和P沟道类型。在上面的符号中,我们可以观察到第四个端子(衬底)连接到地,但在分立MOSFET中,它连接到源极端子。漏极和源极之间连接的连续粗线表示耗尽型。箭头符号表示沟道的类型,如N沟道或P沟道。
在这种类型的MOSFET中,一层薄薄的硅沉积在栅极下方。耗尽型MOSFET晶体管在栅源电压()为零时通常是导通的。耗尽型MOSFET的沟道电导率低于增强型MOSFET。
增强型
增强型MOSFET相当于“常开”开关,这类晶体管需要栅源电压来导通器件。N沟道和P沟道增强型MOSFET的符号如下所示。

这里,我们可以观察到源极和漏极之间连接的是一条虚线,表示增强型。在增强型MOSFET中,通过增加氧化物层来增加沟道的载流子,从而提高电导率。
通常,这个氧化物层被称为“反型层”。沟道在漏极和源极之间形 成,与衬底类型相反,例如,N沟道由P型衬底制成,P沟道由N型衬底制成。沟道的电导率取决于电子或空穴,分别对应N型或P型沟道。
MOSFET的结构

MOSFET的基本结构如上图所示。与JFET的结构相比,MOSFET的结构非常不同。在增强型和耗尽型MOSFET中,栅极电压产生电场,改变电荷载流子的流动,例如N沟道的电子和P沟道的空穴。
在这里,我们可以观察到栅极位于薄金属氧化物绝缘层的顶部,两个N型区域用于漏极和源极端子下方。
在上述MOSFET结构中,漏极和源极之间的沟道是N型的,与P型衬底相反。栅极端子很容易偏置为正极性(+ve)或负极性(-ve)。
如果栅极端子没有偏置,那么MOSFET通常处于非导通状态,因此这些MOSFET用于制作开关和逻辑门。耗尽型和增强型MOSFET都有N沟道和P沟道类型。
耗尽型
耗尽型MOSFET通常被称为“导通”器件,因为这些晶体管在栅极端子没有偏置电压时通常是闭合的。如果栅极电压正向增加,耗尽型的沟道宽度会增加。
因此,通过沟道的漏极电流 增加。如果施加的栅极电压更负,则沟道宽度非常小,MOSFET可能进入截止区。耗尽型MOSFET是电子电路中很少使用的一种晶体管。
下图显示了耗尽型MOSFET的特性曲线。

耗尽型MOSFET晶体管的V-I特性如上所示。该特性主要给出了漏源电压()和漏极电流()之间的关系。栅极的小电压控制通过沟道的电流流动。

当栅极端子为零偏置电压时,漏极和源极之间的沟道起到良好的导体作用。如果栅极电压为正,则沟道宽度和漏极电流增加;如果栅极电压为负,则这两个值(沟道宽度和漏极电流)减小。